昊量/星朗 定制透射和反射X射線光柵

昊量/星朗 定制透射和反射X射線光柵

昊量/星朗 定制透射和反射X射線光柵（個性化定制全場景適配）

應用納米工具（Applied Nanotools Inc.，簡稱ANT）成立于2002年，是納米微納加工、集成光子芯片與X射線光學元器件專業代工廠，深耕電子束光刻微納制造領域二十余年，專注為科研機構、光學實驗室、半導體及光通信企業提供超高精度納米結構加工、定制光學器件研發與小批量量產服務，助力前沿成像、傳感、光通信、高性能計算等領域實現技術突破。

該產品簡介一：

是一種允許光線通過并產生衍射效應的光學元件。它通常由一系列平行且等間距的刻線或狹縫組成，這些刻線或狹縫可以透光，而它們之間的區域則不透光。當入射光穿過透射光柵時，光線會在每個刻線或狹縫處發生衍射，形成多個衍射級次。這些衍射光束在空間中相互干涉，形成特定的衍射圖案，從而實現對光的色散和分析。廣泛應用于光譜儀、分光光度計等光譜分析儀器中；也用于干涉測量、全息術等領域中的高精度測量和成像任務。

該產品簡介二：

是一種利用鏡面反射原理使光線產生衍射效應的光學元件。它的表面通常鍍有一層金屬膜或其他高反射材料，以提高反射效率。反射光柵同樣由一系列平行且等間距的刻線或凹槽組成，但這些刻線或凹槽是刻在反射面上，而不是穿透整個元件。當入射光照射到反射光柵上時，光線在每個刻線或凹槽處發生反射和衍射。這些反射和衍射光束在空間中相互干涉，形成特定的衍射圖案。由于反射光柵利用了鏡面反射原理，因此它可以更有效地利用光能，減少能量損失。常用于天文望遠鏡、激光測距儀等高精度光學儀器中；也適用于大型光學系統中的光束控制和校準任務。

定制用于極紫外光和高能X射線系統的透射光柵。我們的直接寫入、快速穿插工藝允許從數百微米到毫米的更高分辨率光柵。各種金屬可以在 Si3N4、SiC 或Si 的薄膜上制造。

該產品簡介三：

針對 X 射線波段設計的衍射光學元件，利用周期性微納結構對 X 射線發生衍射、分光、偏轉、調制，核心分為透射式和反射式兩大類。透射 X 射線光柵是X射線直接穿過光柵基底完成衍射的，可用于軟X射線、X 射線成像、光譜探測、脈沖整形等。反射X射線光柵是 X 射線以掠入射角度打在光柵表面，反射后發生衍射，主流用于同步輻射、X 射線光譜儀、EUV、高能光束線。

該產品的優勢

·高分辨率

分辨率可達半節距 20 納米，等效 50000 線對/毫米。

·定制膜方案

光柵可以制造在硅基或玻璃基材上。對于透射光柵，可用的基材包括薄層氮化硅、碳化硅或厚度在50 納米至1000 納米之間的硅膜，基材可以根據應用需求選擇。

·高深寬比

高分辨率直寫圖形工藝可制備定制化結構及適用于硬 X 射線領域的高效率光柵。支持金、鎳、鉑、鎢等金屬材料，可實現正膠圖形與負膠圖形兩種光刻模式。

·定制化應用

我們的定制光柵可應用于同步輻射裝置及實驗室設備，適配多種使用場景。

柵格設計參數展示（可根據要求定制設計）