昊量光電/星朗浩宇RC2® 光譜型橢偏儀

昊量光電/星朗浩宇RC2® 光譜型橢偏儀

RC2® 光譜型橢偏儀，采用雙旋轉補償器設計，支持 193–2500nm 寬光譜測量

昊量光電/星朗浩宇RC2® 光譜型橢偏儀

面向復雜薄膜、納米結構與穆勒矩陣分析的光譜橢偏系統

產品簡介

昊量光電新推出的 該產品是一款面向薄膜表征、復雜納米結構分析、各向異性材料研究、顯示器件檢測和工藝監控的高性能光譜橢偏測量平臺。系統采用雙旋轉補償器結構，結合消色差補償器設計、光源、下一代光譜儀和擴展近紅外探測技術，可在寬光譜范圍內實現高速、高精度、多維度的光學測量。

與常規光譜橢偏儀相比，RC2 的突出優勢在于不僅可以完成標準光譜橢偏測量，還可以進行廣義橢偏測量和完整穆勒矩陣橢偏測量。RC2 是適用于光譜橢偏分析和穆勒矩陣橢偏分析等多種應用的近乎通用解決方案，并可采集穆勒矩陣的全部 16 個元素。

該產品測量能力

RC2 可用于測量薄膜厚度、折射率 n、消光系數 k、光學常數、反射率、透射率、各向異性、去偏振以及完整穆勒矩陣數據。對于具有各向異性、退偏振、圖案化結構、納米結構或復雜偏振效應的樣品，RC2 可提供比常規橢偏測量更全面的數據支持。

該產品雙旋轉補償器技術

RC2 采用兩個補償器同步旋轉的技術結構，兩個補償器分別位于樣品前后。該設計能夠提升測量速度、數據精度和偏振測量能力，并支持完整穆勒矩陣數據采集。資料第3頁顯示，雙旋轉補償器技術是 RC2 實現高精度、快速測量和測量功能的關鍵基礎。

該產品寬光譜覆蓋能力

RC2 可根據不同配置覆蓋紫外、可見光、近紅外以及擴展近紅外波段。RC2 可覆蓋從低至 193nm 的紫外到高達 2500nm 的擴展近紅外范圍；第13頁列出了不同型號的波長范圍，其中 DI 型可覆蓋 193–1690nm，XI+ 型可覆蓋 210–2500nm。

這種寬光譜能力使 RC2 特別適合低帶隙半導體、透明導電氧化物、OLED、液晶、聚合物、有機光伏、顯示材料和復雜多層膜結構分析。RC2 波長覆蓋范圍可從紫外延伸至近紅外，對于化合物半導體薄膜可覆蓋低至 0.5eV、高至 6eV 的光子能量區域，有助于觀察材料帶隙和電子躍遷吸收特征。

該產品的數據質量

RC2 的光學設計可提供高準確度數據。資料第4頁顯示，對空氣直通進行的測試測量中，對角穆勒矩陣值為 1±0.002，非對角穆勒矩陣值為 0±0.002；薄氧化膜厚度重復性可達到＜0.005nm，說明系統對極薄材料和表面層具有很高靈敏度。

該產品適用于復雜樣品和材料

RC2 不僅適用于常規薄膜厚度和光學常數測量，也適用于更復雜的材料體系，包括低帶隙半導體、導電有機物、OLED、ITO、柔性 PET 基底、液晶、各向異性聚合物、圖案化結構、納米結構和復雜多層膜。

RC2 可用于顯示應用，包括 a-Si、poly-Si、microcrystalline-Si、OLED 層、彩色濾光片、ITO、MgO、聚酰亞胺和液晶；其中 ITO 的電導率與近紅外吸收相關，RC2 適合利用 NIR 或 XNIR 擴展波長進行測量。

該產品核心參數

該產品測試能力

該產品典型應用領域

該產品適用于復雜薄膜表征、半導體薄膜測量、低帶隙半導體分析、有機半導體研究、OLED 層分析、光伏材料檢測、ITO 透明導電膜分析、柔性 PET 基底薄膜測量、液晶顯示材料分析、各向異性聚合物研究、納米結構表征、圖案化結構分析、穆勒矩陣橢偏分析、退偏振樣品分析、原位工藝監控、晶圓薄膜均勻性映射、玻璃面板薄膜檢測、液體環境薄膜測量和溫控環境材料研究

該產品問答小貼士

1. RC2光譜型橢偏儀主要用來做什么？

RC2主要用于薄膜厚度、光學常數、各向異性、去偏振和完整穆勒矩陣測量，適合復雜薄膜、納米結構、液晶、OLED、ITO、半導體和顯示材料分析。

2. RC2與普通光譜橢偏儀有什么區別？

普通光譜橢偏儀通常主要測量Psi和Delta，而RC2采用雙旋轉補償器，可支持廣義橢偏和完整4×4穆勒矩陣測量，能夠分析更復雜的各向異性和退偏振樣品。

3. RC2的波長范圍是多少？

根據不同配置，RC2可覆蓋193–1000nm、210–1690nm、193–1690nm，蕞高可擴展至210–2500nm。

4. RC2是否適合顯示和液晶材料？

適合。RC2可用于OLED、ITO、彩色濾光片、聚酰亞胺、液晶層等顯示材料測量，并可通過穆勒矩陣分析液晶光軸扭曲、預傾角和各向異性折射率。

5. RC2能否用于原位監測？

可以。RC2可直接安裝到工藝腔室，用于實時監測和過程控制，適合薄膜沉積、刻蝕、工藝研發和在線監控場景。

該產品采用雙旋轉補償器和寬光譜探測技術，可實現高速光譜橢偏、廣義橢偏和完整穆勒矩陣測量。

從半導體薄膜、OLED、ITO、液晶到復雜納米結構，RC2 為材料研發和工業過程控制提供高精度光學表征方案。