ECLIPSE L300N Nikon / 日本尼康 大樣品正置檢查顯微鏡

Nikon / 日本尼康 大樣品正置檢查顯微鏡 ECLIPSE L300N

Nikon / 日本尼康 大樣品正置檢查顯微鏡 ECLIPSE L300N

### 1. CFI60-2 高精度光學成像系統

ECLIPSE L300N 搭載尼康成熟的 CFI60-2 光學架構，具備優異的色差、球差與視場畸變校正能力，全域視野亮度均勻、畫質平整通透，無邊緣虛化與畫面扭曲。光學解析力高、對比度出色，可精準呈現樣品表面細微劃痕、顆粒雜質、微觀紋路、膜層結構、微小缺陷等細節。雙光路光學設計有效降低高反光基材、透明基板的眩光與雜光干擾，成像干凈穩定，重復性高，半導體、顯示面板等高精密產品的微觀檢測與結構分析標準。

### 2. 透反射雙照明與多模式觀測性能

設備核心搭載**透射 + 反射雙路照明系統**，可自由切換光路模式，既能檢測金屬、半導體等不透明工件的表層缺陷，也可觀測玻璃、薄膜、基板等透明樣品的內部結構。支持明場、暗場、偏光等多種觀測方式，可根據缺陷類型、樣品材質靈活切換成像模式，適配多維度檢測需求。照明光線色溫穩定、照度均勻，長期連續作業無明顯亮度衰減，保障批量檢測畫面一致性，有效提升檢測精度與規范性。

### 3. 大行程機身結構與工業適配拓展

整機采用工業級高剛性機身結構，搭載大尺寸精密載物臺，行程充足，適配大尺寸面板、整片晶圓、大型精密器件的大范圍掃描檢測。對焦系統行程充足、阻尼均勻，粗微調切換精準，長期高頻作業不易出現精度偏移與機械松動。設備支持三目成像拓展，可外接工業相機與圖像分析軟件，實現拍照存檔、尺寸測量、缺陷統計與數據追溯。整體穩定性與通用性，適用于 FPD 顯示行業、半導體晶圓檢測、精密電子元器件質控、材料科研分析等領域。